产品介绍

本产品是隔离膜,为了选择性地透光,刻有一定的图案。 使用光掩膜时,可形成众多电路和图案。

光掩膜是用于半导体直接电路 (LSI)、平面显示屏 (LCD、OLED)、印刷电路基板 (PCB) 等的微小电路原板。

产品查询

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优点

대면적
大面积
초정밀
超精密
저비용
低成本
    实现超精密图案

    Fine CD : Chrome 0.6um, Space 1.0um

    Transmittance control : 4% ~ 55%

    拥有大面积 Photo mask 原创技术

    与世界上最早的 8.5 代用 Mask 相应 :1,220x1,400mm(13t)

    拥有 Quartz Polishing, Cr sputtering, PR Coating 技术

    世界上最早开发 Large Area Pattern Generator

产品种类

分类 Specification
Binary Mask CD Tolerance ≤± 0.20um, Range ≤0.25um
Fine-Slit Mask CD Tolerance ≤± 0.10um, Range ≤0.10um
Half-tone Mask Transmittance Tolerance ≤± 1.0%
Uniformity ≤ 2.0%
Multi-tone Mask Transmittance Target : 4% ~ 55% (3-tone 以上)

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