빛을 선택적으로 투과시키기 위해 일정한 패턴이 새겨진 차단막으로 반도체집적회로(LSI), 평판디스플레이(LCD/OLED), 인쇄회로기판 수많은 회로 및 패턴의 형성이 가능합니다.
특장점
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01
초정밀 Pattern 구현 기술
Fine CD : Chrome 0.6㎛, Space 1.0㎛
Transmittance control : 4%~55%
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02
대면적 포토마스크 원천 기술
10.5세대用 마스크 대응 :
1,620×1,780mm(17t)
※ Available 1,800×2,000mm(23t)
Quarts Polishing, Cr sputtering, PR Coating 기술 보유
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